ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
ITO靶材主流回收技術(shù)
機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。
濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。
熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。
銦元素在工業(yè)生產(chǎn)中發(fā)揮著舉足輕重的作用。作為稀有金屬，銦以其獨特的性質(zhì)被廣泛應用于多個領(lǐng)域。其中，銦錠因其出色的光滲透性和導電性，成為生產(chǎn)ITO靶材的主要原料，這一應用占據(jù)了全球銦消費量的70%，是液晶顯示器和平板屏幕生產(chǎn)的關(guān)鍵。