由于銦靶材在半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域有重要應(yīng)用，一些半導(dǎo)體相關(guān)的企業(yè)和科研機(jī)構(gòu)可能會有收購銦靶材的需求。這些企業(yè)通常對銦靶材的質(zhì)量和規(guī)格有較高的要求，它們可能會通過專業(yè)的渠道或與行業(yè)內(nèi)的供應(yīng)商建立合作關(guān)系來獲取銦靶材。
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
ITO靶材主流回收技術(shù)
機(jī)械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。
濕法化學(xué)回收：利用酸堿進(jìn)行溶解分離，適合大批量廢靶材。
熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。
在分離銦和其他金屬和材料時(shí)，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學(xué)浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機(jī)溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過樹脂吸附銦離子，同時(shí)留下其他離子。沉淀法使用化學(xué)試劑使銦從溶液中沉淀出來，而將其他金屬和材料留在溶液中。