NI-2006HSX
使用可溶性陽極的鍍鎳工藝
NI-2006HSX 是氨基磺酸鹽型鍍鎳工藝，可產生低應力的，半光亮的，延展性的鎳鍍層。本工藝尤其適用于作為貴金屬和非貴金屬電鍍的底層。它專門用于可溶性陽極體系的高速電鍍設備。
設備
槽 襯橡膠，PVC，PVDC，PP或聚乙稀，襯里需用60g/L磷酸鈉在50℃瀝濾8小時，然后用水沖洗，再用5~10%硫酸溶液在60℃瀝濾8小時,用清水徹底沖洗。
整流器 標準直流電源整流器，配有伏特計，安培計和電流連續控制器。安培計應用安培-分鐘計。
過濾 連續過濾，每小時至少一個循環。泵和濾芯應使用惰性材料。接口用Nyflex管連接。不要用不銹鋼。
加熱器 用石英或玻璃加熱器，不要用不銹鋼。
攪拌 用陽極移動或溶液循環攪拌。不要用空氣攪拌。
陽極 高純度的S陽極，用電解去極化或鎳柱陽極。陽極袋應浸在含5%（v/v）硫酸的沸騰的水溶液中5~15分鐘，然后徹底沖洗干凈。
攪拌 盡可能快
電流密度 A/dm2 根據應用和設備不同而不同，可達25
效率 mg/Amin 17.7 17.5~18.0
95%以上
鍍1微米所需時間
5 A/dm2 秒 60 50~70
20 A/dm2 秒 15 13~17
分析
試劑
混合指示劑: 溶解1g溴代百里酚鈦藍和5g溴甲酚紫于50mL乙醇中。
步驟
1.準確移取5mL試樣于250mL錐形瓶中。
2.加入5滴混合指示劑。注：此時溶液應為藍色，若溶液為綠色，慢慢加入0.1N NaOH 直至溶液為藍色。
3.加入約20g甘露醇，搖晃直至形成均勻的漿狀物。
計算
試樣吸收峰高度
×43 = NI-2006HSX 添加劑濃度（mL/L）
標準溶液吸收峰高度
低應力電鍍鎳 氨基磺酸鎳 啞光鎳 LECTRONIC 1003 HSX、LECTRONIC 1003、LECTRONIC 1003M、LECTRO-NIC OXR-1100、LECTRO-NIC OXR-1300、ENPLATE LDS AG 600