ITO靶材的制備通常采用物相沉積（PVD）或化學氣相沉積（CVD）等方法。PVD法通過濺射技術將銦和錫等材料沉積在基材上，形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產高質量、均勻的ITO薄膜，但PVD法更為常見。
隨著電子產業的不斷發展，對資源的節約和回收利用的要求也日益提高。ITO靶材中含有昂貴的銦元素，因此開發有效的回收方法變得至關重要。
化學回收法： 化學回收法主要是通過化學溶解或還原反應將ITO薄膜中的銦元素分離出來。這一過程通常包括酸溶解、絡合劑處理等步驟，終得到含銦的化合物。隨后，通過進一步的化學反應或電化學方法，可以提純得到高純度的銦。
物理回收法： 物理回收法主要通過物理手段分離ITO薄膜中的銦和錫。這包括磨碎、篩分、磁選等步驟。研究表明，物理回收法可以有效地提高銦的回收率，并且對環境友好。
電化學回收法： 電化學回收法利用電化學反應將ITO薄膜中的銦還原出來。這通常需要在合適的電解液中進行電解，通過施加電流來促使銦在電極上析出。這一方法對于回收銦具有潛力。
隨著科技的不斷發展和人們環保意識的提高，回收利用貴金屬已成為一種重要的環保和經濟效益手段。銦作為一種重要的稀有金屬，在電子、光電、通訊等領域有著廣泛的應用。
回收銦的保存方法：
1. 干燥保存
回收的銦應存放在干燥、清潔的環境中，避免與腐蝕性物質接觸。可以將銦放入密封袋或密封容器中，以防止氧化和與其他物質發生反應。
2. 溫度控制
回收的銦應保持在適宜的溫度范圍內，以避免出現質量損失和變形。在保存過程中，應定期檢查溫度和濕度，確保環境條件適宜。
3. 分類管理
對于不同類型和純度的回收銦，應進行分類管理。可以根據銦的純度、規格、用途等因素進行分類，以便更好地管理和使用。