回轉(zhuǎn)窯脫硝技術(shù) 河北耀一廠家有案例
一般用的都是回轉(zhuǎn)窯，在做脫硝的時(shí)候，利用高分子干法脫硝工藝進(jìn)行煙氣氮氧化物的處理，是既經(jīng)濟(jì)又能達(dá)標(biāo)的一種好方法，
利用高分子顆粒脫硝劑作為高分子脫硝的還原劑，沒(méi)有水分的參與，不腐蝕，效率高，價(jià)格也便宜，是目前回轉(zhuǎn)窯脫硝工藝?yán)镞吔?jīng)濟(jì)實(shí)用的。下面小編為大家介紹一下高分子脫硝工藝。
高分子脫硝工藝系統(tǒng)主要包括：上料系統(tǒng)、輸送系統(tǒng)、下料器系統(tǒng)、氣料分配器、噴射系統(tǒng)、電氣儀表及控制系統(tǒng)。
負(fù)壓上料系統(tǒng)：
負(fù)壓上料裝置輸送的方式是由操作人員通過(guò)負(fù)壓管從料包中將脫硝劑吸入料倉(cāng)內(nèi)，極大的節(jié)省了人員的操作時(shí)間，并做到了通過(guò)設(shè)備整體的稱重系統(tǒng)與PLC系統(tǒng)。
控制之間的聯(lián)動(dòng)，設(shè)上、下料位容量數(shù)據(jù)參數(shù)，料倉(cāng)內(nèi)物料分別在高、低位時(shí)由控制系統(tǒng)發(fā)出聲光報(bào)警，提醒要加料和料倉(cāng)已滿料；高位料位數(shù)據(jù)參數(shù)報(bào)警時(shí)負(fù)壓上料裝置自動(dòng)停止加料。
高分子脫硝系統(tǒng)主要設(shè)備按模塊化進(jìn)行設(shè)計(jì)，主要包括氨水卸載模塊、氨水儲(chǔ)罐模塊、氨水輸送模塊、軟水儲(chǔ)罐模塊、軟水輸送模塊、PLC集中控制模塊、壓縮空氣分配模塊、氨噴射模塊、氨逃逸j測(cè)模塊等。
高分子脫硝設(shè)備對(duì)于環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)要求氮氧化物降到50毫克以下的企業(yè)來(lái)說(shuō)，高分子脫硝是比較不錯(cuò)的選擇。
固態(tài)高分子的脫硝工藝是一種爐內(nèi)脫硝工藝，它采用粉體氣相自動(dòng)輸送系統(tǒng)，在爐內(nèi)煙氣出口處及爐膛高溫區(qū)選擇幾處合適位置打孔
將高分子脫硝劑噴入，在合適反應(yīng)溫度區(qū)將NOx還原成H2和H2O。固態(tài)高分子HNCR脫硝工藝也是一種爐內(nèi)脫硝工藝。