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        電鍍啞光錫鉛合金工藝

        2023-06-08 15:14   1471次瀏覽
        價 格: ¥ 1

        ALT-STANNOSTAR-HMM

        電鍍啞光錫鉛合金工藝

        【簡介

        ALT-STANNOSTAR-HMM是一種磺酸型的,泡沫少,錫鉛電鍍工藝,對在中速和高速電鍍條件下均能產(chǎn)生啞光到半光亮的錫/鉛合金鍍層。溶液適用于60/40,90/10,98/2錫鉛合金鍍層和純錫或純鉛鍍層;在很寬的操作參數(shù)范圍內(nèi)包括電流密度,合金及攪拌,ALT-STANNOSTAR-HMM都能保持鍍層性能穩(wěn)定。適合要求較高的電子接插件、端子連接器、半導(dǎo)器元器件、鍍錫銅線、銅包錫線、銅帶、銅板線材、鋼鐵板線材、二極管、三極管、LED支架、食品包裝材料、PCB線路板等高要求的電鍍產(chǎn)品。

        【特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)】

        1. 均勻溶解合金陽極

        2. 效率高,低發(fā)泡

        3. 易于過濾

        4. 不含甲醛,氟硼酸

        5. 適用于連續(xù)帶狀、線狀或圈過圈的設(shè)備

        【所需產(chǎn)品】

        1. ALT-STANNOSTAR-HMM A-300 TIN CONC.

        提供錫離子

        2. ALT-STANNOSTAR-HMM A-420 LEAD CONC.

        提供鉛離子

        3. ALT-SANNOSTAR-HMM A-70 ACID CONC.

        配合錫鉛成比例,以STANNOSTAR-HMM A-70 ACID CONCENTRATE 濃酸的形式加入。大量酸可以使槽液穩(wěn)定。

        4. ALT-STANNOSTAR-HMM開缸劑

        用于開缸的液體濃縮液,含有添加劑,潤濕劑和結(jié)晶細(xì)化劑。

        5. ALT-STANNOSTAR-HMM補(bǔ)充劑

        用于補(bǔ)加的液體濃縮液,含有添加劑,潤濕劑和結(jié)晶細(xì)化劑。

        【設(shè)備】

        槽體

        可用剛性PVC,PP,柔性PVC或橡膠襯里的不銹鋼槽。與氟硼酸體系相反,它不會溶解玻璃,侵蝕金屬的速度也很慢,但是不會侵蝕鈦,所以可以用鈦。

        整流器

        標(biāo)準(zhǔn)直流電源,輸出電流應(yīng)足以滿足生產(chǎn)需要。波紋是5%。同時,應(yīng)配備一個伏特計,安培計和一個連續(xù)電流控制器用來地測量電流。應(yīng)使用安培小時計。

        過濾

        通過PP濾芯(10~15μm)連續(xù)過濾,保證溶液清徹透明。過濾泵管不能用橡膠。

        攪拌

        中速至快速攪拌(不能用空氣攪拌)二價錫容易被氧化成四價錫在用空氣攪拌的情況下。

        溫度控制

        溫度應(yīng)該保持在18-50

        陽極

        如果是60/40和90/10工藝,應(yīng)用高純度錫鉛(70/30和90/10)陽極;如果是純錫和98/2錫鉛工藝,應(yīng)用純錫陽極。對于純鉛工藝,應(yīng)用純鉛陽極。陽極袋可用纖維,陽極鉤應(yīng)用鈦。

        【操作參數(shù)

        Tin/Lead

        98/02

        Tin/Lead 90/10

        Tin/Lead 60/40

        Pure Lead

        Tin2+ (g/L)(二價錫)

        80

        80

        80

        -

        Lead2+ (g/L)(二價鉛)

        0.75

        4

        12

        30

        Acid (70%) (ml/L)(酸)

        100

        100

        100

        100

        ALT-STANNOSTAR-HMM

        開缸劑 (ml/L)

        (ml/L)

        40-80

        40-80

        40-80

        40-80

        Temperature (°C)(溫度)

        18- 50

        Cathode current density

        (電流密度)( A/dm2)

        10 - 100 depends on plating equipment

        10-100ASD

        Agitation(攪拌)

        Vigorous(強(qiáng)攪拌)

        Deposition rate at 30 (沉積速率)A/dm2 ,45°C (um/min)

        Approx. 15(大約)

        【開槽步驟

        Bath Volume:100L(槽體積))

        ALLoy

        ALT-

        STANNOSTAR A-300 TIN CONC.

        ALT-STANNOSTAR-HMM A- 420 LEAD CONC.

        ALT-STANNOSTAR-HMM A-70 ACID CONC.

        ALT-STANNOSTAR-HMM

        開缸劑

        Tin/Lead 98/02

        /

        25 L

        0.18 L

        14L

        4 -8L

        Tin/Lead 90/10

        /

        25 L

        0.75 L

        14L

        4 -8L

        Tin/Lead 60/40

        /

        25 L

        3.1 L

        14L

        4 -8L

        Pure Lead

        純鉛

        -

        7.2 L

        14L

        4 -8L

        1.

        無錫中鍍科技有限公司

        地址:無錫市梁溪區(qū)金山北科技產(chǎn)業(yè)園C區(qū)1-8-405

        聯(lián)系:徐亞軍

        手機(jī):18136737161

        電話:0510-85790561

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