產品用途：
此款CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
產品組成：
此款CVD系統配置：
1.1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區、雙溫區）。
2.多路質量流量控制系統
3.真空系統（可選配中真空或高真空）
產品特點：
1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司獨有的知識產權專利設計,提高操作便捷性。
3 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。
天津中環電爐股份有限公司
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