產品用途：
產品專業性：
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品組成：
PECVD系統配置：
1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（可選配中真空或高真空）
產品特點：
生長溫度低；沉積速率快；成膜質量好，適用范圍廣，設備簡單。
天津中環電爐股份有限公司
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