產(chǎn)品用途
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統(tǒng)配置；
1.1200度開(kāi)啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（單獨(dú)購(gòu)買）
產(chǎn)品特性;
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長(zhǎng)；整管可調(diào)；精致小巧，性價(jià)比高，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
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系統(tǒng)名稱
集成型PECVD系統(tǒng)
1200℃小型PECVD系統(tǒng)
系統(tǒng)型號(hào)
PECVD-12IH-500A
PECVD-12IH-4Z/G
控制方式
液晶屏微PLC控制系統(tǒng)
手動(dòng)
溫度
1200℃
加熱區(qū)長(zhǎng)度
200mm
恒溫區(qū)長(zhǎng)度
100mm
溫區(qū)
單溫區(qū)
石英管管徑
Φ60mm
Φ50mm
額定功率
1.2Kw
2Kw
額定電壓
220V
滑動(dòng)方式及距離
自動(dòng)滑動(dòng);200mm
手動(dòng)滑動(dòng);200mm
溫度控制