產(chǎn)品應(yīng)用：
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成：
PECVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng)，并配置管內(nèi)測(cè)溫系統(tǒng)。
3.預(yù)加熱開啟式管式電爐
4.等離子射頻電源
5.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
6.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品特點(diǎn)：
生長(zhǎng)溫度低；沉積速率快；成膜質(zhì)量好，適用范圍廣，設(shè)備簡(jiǎn)單。
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