名稱：金
熔點：1064.2℃
符號：Au
沸點：2808℃
原子量：196.97
密度：19.32g/cm3
純度： 4N5N
產(chǎn)品規(guī)格狀態(tài)純度尺寸
靶材4N-5N根據(jù)要求定制可回收
棒狀4N-5N可定制
顆粒5Nφ3*3mm
絲狀4Nφ0.01-5mm
片狀4N0.03-10mm
產(chǎn)品優(yōu)點1，不純物元素含量極低2，導電性能好，產(chǎn)品致密度好3，制備一般有化學精煉法，電解精煉法，萃取精煉法等4，小包裝，現(xiàn)貨產(chǎn)品用途磁控濺射鍍膜材料等產(chǎn)品附件正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質(zhì)分析檢測單/正規(guī)發(fā)票產(chǎn)品包裝真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝制作工藝化學精煉法，電解精煉法，萃取精煉法等適用儀器各類型號磁控濺射設備交貨期單片材料1周內(nèi)發(fā)貨，批量材料10個工作日內(nèi)發(fā)貨產(chǎn)品運輸國內(nèi)**承運（順豐，德邦等）起訂量靶材一片起訂，粉末顆粒10g起訂
臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司是一家專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)和銷售真空磁控濺射靶材/專業(yè)材料加工技術在薄膜濺鍍靶材，銅靶，鋁靶，鈦靶，鎳靶，鋯靶，鉻靶，鉿靶及貴金屬和異形靶材加工，資源回收的制造商。公司不僅有年青和富有創(chuàng)造力的團隊，**焊接技術,多年濺射靶材經(jīng)驗，并擁有完善的檢測程序和設備。
臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司其它高純靶材及鍍膜材料如下：
1、高純度金屬單質(zhì)包括金屬粉、金屬顆粒、金屬絲、金屬塊、金屬片等。產(chǎn)品包括：純鐵，銅，鋁，鉛，鋅，金，錫，鉻，釩，錳，鎂，鎘，鉍，銻，鈦，鋯，鉿，銦，硒，碲，鎵，鍺，錸，鎢，鉬，鉭，鈮，硼，硅，貴金屬等的錠，棒材，絲材，板材，帶材，箔材，顆粒，粉末。
2、高純金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜材料。金屬靶材：鋁靶Al、銀靶Ag、鈷靶Co、鉻靶Cr、銅靶Cu、金靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶Zr、鈦鋁靶Ti、鋯靶Zr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、硅靶Si、鎢靶W、鉿靶Hf、釓靶Gd、釤靶Sm、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La金靶Au等。
3、合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、金鈷Ni-Co、金鐵Ni-Fe、金鉻Ni-Cr、金鋯Ni-Zr、金鋁Ni-Al、金銅Ni-Cu、金釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁V-Al、鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。
4、陶瓷靶材：ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化金靶、等陶瓷靶材。產(chǎn)品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應用真空鍍膜的各種領域：科學研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲等等。
鈦鋁合金靶Ti-Al、鋁硅合金靶Al-Si、鋁銅合金靶Al-Cu、鋁鈦合金靶Al-Ti、銀銅合金靶Ag-Cu、鋁鎂合金靶Al-Mg、鈷鐵硼合金靶Co-Fe-B、銅銦鎵合金靶Cu-In-Ga、鐵錳合金靶Fe-Mn、銦錫合金靶In-Sn、鈷鐵合金靶Co-Fe、鎳鈷合金靶Ni-Co、鎳鐵合金靶Ni-Fe、鎳鉻合金靶Ni-Cr、鎳鋯合金靶Ni-Zr、鎳鋁合金靶Ni-Al、鎳銅合金靶Ni-Cu、鎳釩合金靶Ni-V、鎢鈦合金靶W-Ti、鋅鋁合金靶Zn-Al、鋁鈦硼合金靶Al-Ti-B、鋁鈧合金靶Al-Sc、釩鋁鐵合金靶V-Al-Fe、銅錫合金靶Cu-Sn、鋯鋁合金靶Zr-Al、釩鋁合金靶V-Al、硼鐵合金靶B-Fe
研創(chuàng)新材所有產(chǎn)品規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做。